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聯(lián)發(fā)科未來將會采用臺積電3納米布局先進封裝

來源: | 發(fā)布日期:2021-11-11 瀏覽量:

11月10日成功大學舉辦了第一屆成電論壇,在會上聯(lián)發(fā)科副總高學武表示,目前公司已采用了臺積電5納米、4納米制程來生產(chǎn)芯片,未來3納米聯(lián)發(fā)科也一定會采用,并與客戶共同布局先進封裝,將應用在資料中心等領域。

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高學武表示,半導體在各領域含量不斷增加,推升產(chǎn)業(yè)年復合成長率達10%以上,尤其是車載芯片,盡管聯(lián)發(fā)科車用芯片營收占比重不高,不過,已看到未來全球碳中和將帶動電動車趨勢,進一步帶動晶圓消耗量。

聯(lián)發(fā)科車用芯片現(xiàn)今主流制程多布局在55、40納米,針對現(xiàn)今供應鏈產(chǎn)能吃緊,高學武坦言,現(xiàn)今成熟制程節(jié)點產(chǎn)能仍相當緊張,將持續(xù)爭取新產(chǎn)能,滿足客戶需求,但最重要的仍須依靠晶圓廠擴充新產(chǎn)能。

不過,隨著制程不斷往前邁進,終端產(chǎn)品、芯片廠也會跟進,如蘋果每年均推出搭載最新制程芯片的手機,英特爾也將持續(xù)推出新節(jié)點的CPU,借此提升終端產(chǎn)品性能。

此外,由于摩爾定律發(fā)展即將到極限,聯(lián)發(fā)科也采用封裝整合延續(xù)定律,藉由整合同質芯片與異質芯片,突破摩爾定律的限制,聯(lián)發(fā)科目前已采用臺積電的CoWoS、InFO等封裝技術,應用在資料中心等,未來也會進一步采用3DIC。





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